Las empresas vascas Tecnalia y H2SITE lanzan el primer reactor de membranas a escala industrial para producir hidrógeno

Tecnalia y H2SITE han lanzado el primer reactor a escala industrial para la generación de hidrógeno para pequeños y medianos consumidores, de elevada pureza y bajo coste. Estos reactores de membrana surgen como alternativa a la electrólisis para la conversión de diferentes materias primas en hidrógeno.

Actualmente, H2SITE está construyendo su propia planta de fabricación de membranas en Loiu (Bizkaia) que dará empleo a 50 personas en los próximos 5 años. Esta planta, única en el mundo, industrializará la producción de membranas utilizadas en la fabricación de los reactores de producción de hidrógeno. Estos reactores son una alternativa a la electrólisis y proponen un hidrógeno renovable a un precio competitivo, utilizando tecnología desarrollada en Europa y construida en Euskadi.

El primero de estos reactores ya está en marcha.  Ainara Basurko, Diputada de Promoción Económica en la Diputación Foral de Bizkaia, Joseba Mariezkurrena, Director de Emprendimiento y Competitividad Empresarial de la Diputación Foral de Bizkaia, y Olatz Goitia, directora de BEAZ Bizkaia, acompañados por Iñaki San Sebastián, CEO de TECNALIA y Andrés Galnares, CEO de H2SITE, pudieron comprobar este reactor en una visita en las instalaciones de Azaro Fundazioa en Markina (Bizkaia).

Andrés Galnares, CEO de H2SITE asegura que es un gran éxito para la empresa y también para el sector. Ahora el reto “es producir suficientes membranas para satisfacer la demanda de nuestros clientes, acompañándolos en la reducción de su huella de carbono”,  ha asegurado Andrés Galnares.

Por su parte, Ainara Basurko, Diputada de Promoción Económica en la Diputación Foral de Bizkaia, “H2Site es un magnífico ejemplo del papel estratégico que juegan y pueden seguir jugando los centros tecnológicos en el impulso de nuevos negocios innovadores de base tecnológica”.

Términos empleados para llegar hasta aquí:

Add a Comment

Your email address will not be published. Required fields are marked *